产品全称:Fluorescence microscopy White Light Mirror Unit 宽光谱白光激发块
光学配置:宽光谱中性白光滤光片(400-700nm)
标配配件:专用防护收纳盒(including case)
产品产地:日本进口光学基材与镀膜工艺(Japan)
适用场景:全波段白光照明、明场观察、荧光定位对照、多色荧光复合成像、病理切片白光观测
核心特性:400nm~700nm 超宽可见光平坦透过,平均透过率约50%,日本原装光学工艺,无波段选择性,完美适配所有荧光体系的白光定位与明场成像。
1. 透过波段:400nm ~ 700nm(全可见光宽光谱平坦透过)
2. 平均透过率:50%(中性衰减,保护相机与人眼,提升成像舒适度)
3. 光学工艺:日本精密光学镀膜,平坦度高,无杂色、无波段偏移、无吸收畸变
4. 结构规格:标准显微镜通用立方体结构,兼容所有品牌正置/倒置荧光显微镜
| 参数项目 | 指标值 | 说明 |
|---|---|---|
| 有效光谱范围 | 400nm ~ 700nm | 全可见光波段覆盖 |
| 平均透过率 | 50% | 中性衰减,平坦无波动 |
| 光学基材 | 日本进口石英 | 高透光、低应力、高平整 |
| 表面精度 | λ/10 | 超高清成像无畸变 |
| 适用机型 | 全品牌荧光显微镜 | 奥林巴斯/尼康/徕卡/蔡司/国产通用 |

1. 400~700nm全可见光宽光谱平坦透过,无波段选择性,适用于所有荧光样本的白光定位;
2. 日本原装进口光学基材与镀膜工艺,透过率均匀稳定,无杂光、无色差、无成像畸变;
3. 50%中性透过设计,有效衰减强光,保护相机传感器与观测人眼,提升成像舒适度;
4. 标准通用立方体结构,适配绝大多数品牌正置、倒置荧光显微镜,即插即用;
5. 多层硬膜光学镀膜,耐刮擦、耐酸碱、防尘防潮,使用寿命长,维护简单;
6. 完美配合荧光成像使用,实现“明场观察+荧光定位”一体化观测,提升实验效率。
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